طريقة تصوير غير مدمرة بدون تلامس لتركيز الإشابة محلول مكانيًا ، [2.2] N d ، والمقاومة الكهربائية ، ، لرقائق السيليكون من النوع n و pباستخدام صور كاريوجرافي مثبتة في شدة إشعاع ليزر مختلفة. تم استخدام معلومات السعة والطور من مواقع الرقاقات ذات المقاومة المعروفة لاشتقاق عامل معايرة لتحديد معدل توليد الموجات الحاملة المطلقة بدقة. تم استخدام نموذج مجال التردد بناءً على الطبيعة غير الخطية للإشارات الراد...
يتم استعراض التطورات الحديثة في نمو أفلام SiC فوق المحور على Si. تمت مناقشة الأساليب الكلاسيكية الأساسية المستخدمة حاليًا في نمو أفلام SiC واستكشاف مزاياها وعيوبها. الفكرة الأساسية والخلفية النظرية لطريقة جديدة لتركيب أفلام SiC الفوقيةيتم إعطاء على سي. سيظهر أن الطريقة الجديدة تختلف اختلافًا كبيرًا عن التقنيات الكلاسيكية لنمو الأغشية الرقيقة حيث يتم استغلال تبخر الذرات على سطح الركيزة. تعتمد الطري...
معلومات الاتصال
luna@powerwaywafer.compowerwaymaterial@gmail.com 
+86-592-5601 404
