لتحقيق كربيد السيليكون عالية الأداء ( كربيد ) يجب تطوير أجهزة الطاقة ، والاتصالات الأومنية منخفضة المقاومة إلى كربيد نوع سين. للحد من مقاومة التلامس الأومية ، هناك حاجة إلى خفض ارتفاع الحاجز في الواجهات المعدنية / كربيد أو زيادة تركيز المنشطات في ركائز كربيد السيليكون. بما أن الحد من ارتفاع الحاجز صعب للغاية ، فإن الزيادة في تركيز المنشطات في 4H-كربيد من قبل تقنية زرع ايون تم الطعن. تم ترسيب المعا...
فحص التصوير الطبوغرافي و الكيميائي بالأشعة السينية لـ Si: Ge single crystal يحتوي على 1.2 في٪ و 3.0 عند٪ Ge ، مع قياسات معلمة لشبكة شعرية دقيقة. وقد لوحظت تباينات الانعراج في شكل "دوائر شبه مركزية" متراكزة (ربما بسبب التوزع غير المنتظم لذرات القشرة الأرضية) في طبوغرافية الإسقاط. كشفت أنماط النقش العصابات المقابلة للتضيقات والاختلالات مثل حفر الحفر. عرضت المنطقة المركزية "المركزية&qu...
نقدم طريقة عدم الاتصال لتحديد وقت الاستجابة الحرارية لأجهزة استشعار درجة الحرارة المضمنة في الرقاقات. في هذه الطريقة ، يضيء مصباح الفلاش بقعة على الرقاقة في النبضات الدورية ؛ المكان على الجانب الآخر من المستشعر قيد الاختبار. ثم يتم الحصول على ثابت الوقت الحراري للمستشعر من قياس الاستجابة الزمنية ، جنبا إلى جنب مع نموذج نظري لتدفقات الحرارة في كل من المستشعر وأخرى داخل الرقاقة. بيانات تجريبية عن كل...
باستخدام ترسيب البخار الكيميائي المحسّن البلازما (PECVD) عند 13.56 ميجاهيرتز ، يتم تصنيع طبقة البذور في مرحلة النمو الأولي من الجريزوفولفين المهدرج الجرمانيوم السيليكون (μc-Si1 − xGex: H) i-layer. آثار عمليات البذر على نمو μc-Si1 − xGex: H i-layers وأداء μc-Si1 − xGex: H p — i— n خلايا شمسية مفصلية واحدة يتم التحقيق. من خلال تطبيق طريقة البذر هذه ، تظهر الخلية الشمسية μc-Si1 − xGex: H تحسناً كبيرا...
لقد قمنا بتحسين كفاءة الهوائيات الضوئية (PCAs) باستخدام GaAs ذات درجات الحرارة المنخفضة (LT-GaAs). لقد وجدنا أن الخصائص الفيزيائية للطبقات الضوئية LT-GaAs تؤثر بشكل كبير على خصائص التوليد والكشف عن موجات التيراهيرتز (THz). في جيل THz ، يعد التنقل العالي للحامل الضوئي ووجود عدد قليل من المجموعات في LT-GaAs عاملين مهمين. في الكشف ، قصر عمر الموجة الحاملة وغياب بنية متعددة البلورات في LT-GaAsهي عوامل...
طريقة تصوير غير مدمرة بدون تلامس لتركيز الإشابة محلول مكانيًا ، [2.2] N d ، والمقاومة الكهربائية ، ، لرقائق السيليكون من النوع n و pباستخدام صور كاريوجرافي مثبتة في شدة إشعاع ليزر مختلفة. تم استخدام معلومات السعة والطور من مواقع الرقاقات ذات المقاومة المعروفة لاشتقاق عامل معايرة لتحديد معدل توليد الموجات الحاملة المطلقة بدقة. تم استخدام نموذج مجال التردد بناءً على الطبيعة غير الخطية للإشارات الراد...
يتم استعراض التطورات الحديثة في نمو أفلام SiC فوق المحور على Si. تمت مناقشة الأساليب الكلاسيكية الأساسية المستخدمة حاليًا في نمو أفلام SiC واستكشاف مزاياها وعيوبها. الفكرة الأساسية والخلفية النظرية لطريقة جديدة لتركيب أفلام SiC الفوقيةيتم إعطاء على سي. سيظهر أن الطريقة الجديدة تختلف اختلافًا كبيرًا عن التقنيات الكلاسيكية لنمو الأغشية الرقيقة حيث يتم استغلال تبخر الذرات على سطح الركيزة. تعتمد الطري...
معلومات الاتصال
luna@powerwaywafer.compowerwaymaterial@gmail.com 
+86-592-5601 404
