الصفحة الرئيسية / مدونة /

المحوري إيناس / gaas heterostructures على السيليكون في هندسة أسلاك متناهية الصغر

مدونة

المحوري إيناس / gaas heterostructures على السيليكون في هندسة أسلاك متناهية الصغر

2018-08-17

نمت شرائح inas على قمة جزر gaas ، التي تم إنشاؤها في البداية عن طريق epitaxy قطيرات على الركيزة السيليكون. قمنا بشكل منهجي باستكشاف مساحة معلمات النمو لترسب الأسماء ، وتحديد شروط النمو الانتقائي الغاليوم ونمو محوري بحت. تم تشكيل شرائح inas axial مع جوانبها التي تم تدويرها بـ 30 $ ^ {{} ^ circ} $ مقارنة بجزر gaas الأساسية أسفلها. أوضح تجارب انعراج أشعة إكس سنكروترون أن إيناس تزرع شرائح الاسترخاء على قمة gaas ، مع بنية بلورية zincblende في الغالب وأخطاء التراص.


مصدر: iopscience


لمزيد من المعلومات، يرجى زيارة موقعنا على الانترنت:www.semiconductorwafers.net ،

أرسل لنا البريد الإلكتروني علىangel.ye@powerwaywafer.com أوpowerwaymaterial@gmail.com




اتصل بنا

إذا كنت ترغب اقتباس أو مزيد من المعلومات حول منتجاتنا، يرجى ترك لنا رسالة، وسوف الرد عليك في أقرب وقت ممكن.
   
الدردشة الآن اتصل بنا & نبسب؛
إذا كنت ترغب اقتباس أو مزيد من المعلومات حول منتجاتنا، يرجى ترك لنا رسالة، وسوف الرد عليك في أقرب وقت ممكن.